鄭州歐諾儀器現(xiàn)貨進(jìn)口Valco氦氣純化器（HP2）可以隨時(shí)提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，Valco氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無(wú)揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金，此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡(jiǎn)單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過(guò)加熱活化，活化過(guò)程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成，

鄭州歐諾儀器現(xiàn)貨進(jìn)口Valco氦氣純化器（HP2）可以隨時(shí)提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級(jí)以下的不純氣體純化。氮?dú)饧兓鳎∟P2）同樣地作用于氮?dú)?/p>

Valco氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無(wú)揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金，此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡(jiǎn)單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過(guò)加熱活化，活化過(guò)程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮?dú)饧兓饔幸蛔詣?dòng)調(diào)控的特征設(shè)計(jì)，它保持吸附劑材料于溫度，消除了熱量流失的可能性

氦氣純化器

*   可純化氣體：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn

*   操作壓強(qiáng)：1000 psig

*   可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質(zhì)烴。

*   未被去除雜質(zhì)：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn

氮?dú)饧兓?/p>

*   可純化氣體：只有N2

*   操作壓強(qiáng)：1000 psig

*   可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質(zhì)烴。

*   未被去除雜質(zhì)：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2